长期被国外垄断的ArF光刻胶【光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。】，终于迈出了国产化的第一步。南大光电12月17日晚公告，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称“宁波南大光电”)自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。

　　认证评估报告显示，本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南大光电的ArF光刻胶产品各项性能满足工艺规格要求，良率结果达标。

　　南大光电表示，“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项【02专项，即：《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，因次序排在国家重大专项所列16个重大专项第二位，在行业内被称为“02专项”。】”的一个重点攻关项目。本次产品认证的通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，为全面完成项目目标奠定了坚实的基础。

　　根据公司此前披露的项目可行性研究报告，南大光电此次实现突破的为193nm 的ArF光刻胶。这种光刻胶可以用于生产28nm到7nm的制程工艺，目前广泛应用于高端芯片制造，如逻辑芯片、AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等，被称为半导体工业的“血液”。

　　按照此前计划，公司将达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模，以满足集成电路行业的需求。

　　资料显示，南大光电主要从事高纯【高纯，男，1998年毕业于同济医科大学临床医疗专业，外科学博士，2010至2012年美国Roswellpark Cancer Institute博士后。】电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO源、电子特气、光刻胶及配套材料以及ALD/CVD前驱体材料等业务板块。

　　公司称，目前与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。同时，ArF光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，其在应用工艺的改进、完善等方面的表现，都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。

（文章来源：上海证券报）

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